삼성전자는 10월 30일 열린 실적발표회 컨퍼런스콜을 통해 2017년 하반기 가동에 들어가는 평택사업장 반도체 라인의 생산품은 시장 수급상황을 고려해 오는 2016년 최종 결정하게 될 것이라는 공식 입장을 표명했다.
이명진 삼성전자 전무(IR그룹장)는 “삼성전자 평택사업장 투자는 중장기적 반도체 수요증가에 대응하기 위한 것”이라며 “평택사업장 라인 생산품은 시장 수급 상황을 고려해 오는 2016년에 결정할 계획”이라고 말했다.
삼성전자 평택사업장은 283만㎡(85만 5000평) 규모로 이중 79만㎡(23만 8000평)를 먼저 활용해 인프라 시설과 첨단 반도체 라인 1기를 건설한다고 지난 10월 6일 고덕산업단지 현장사무소에서 열린 ‘삼성전자 조기가동 투자 및 지원 협약식’에서 밝힌바 있다.
삼성전자는 평택사업장을 2015년 상반기 착공하고 2017년 하반기 완공 후 가동에 들어간다는 계획으로 2017년까지 인프라 조성과 1기 라인 1단계 투자에 15조 6000억 원을 집행한다. 삼성전자가 반도체 투자를 늘리는 것은 메모리 분야의 3D V낸드플래시 수요가 크게 늘어날 것으로 예상되기 때문이다.
박성복 기자
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